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離子鍍設備_微弧氧化電源_蘇州粵輝煌新材料科技有限公司

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離子鍍設備

離子鍍膜設備是采用冷陰極自持弧光放電,瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā),靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理,是具有沉積速率快,離化率高等特點的鍍膜設備,膜層光亮致密,我公司自主開發(fā)全自動控制系統(tǒng)可實現(xiàn)一鍵化操作;適合高端產(chǎn)品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。

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產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品概述

1、功能:適用于各種金屬與非金屬表面鍍制金屬膜層(金、銀、銅、鋁、鉻、鋯、鈦等)、合金膜層(鈦鋁、鎳鉻、鉻鋁等)、化合物膜層(TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等)、多層復合膜等。因其無污染,潔凈環(huán)保,廣泛應用于餐具、五金產(chǎn)品、工藝品、衛(wèi)浴產(chǎn)品、板材、貨架等各種裝飾、功能涂層等領(lǐng)域。

2、產(chǎn)品特點:離子鍍膜設備是采用冷陰極自持弧光放電,瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā),靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理,是具有沉積速率快,離化率高等特點的鍍膜設備,膜層光亮致密,我公司自主開發(fā)全自動控制系統(tǒng)可實現(xiàn)一鍵化操作;適合高端產(chǎn)品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。

 

二、技術(shù)參數(shù)

型號LZD1300
真空腔室尺寸Φ1300×H1200mm
真空系統(tǒng)國產(chǎn)或進口分子泵/擴散泵+羅茨泵+機械泵高真空系統(tǒng)
極限真空優(yōu)于2.0×10-4Pa
抽速從大氣到3.3×10-3Pa≤30min,升壓率關(guān)機12小時后真空度≤10Pa
工件架尺寸12-24工位可選
工件烘烤溫度室溫~200℃,可調(diào)可控(PID控溫)
配置弧源(柱弧、圓?。?、離子源、偏壓
系統(tǒng)全自動控制系統(tǒng),個性化的Tech-Coating控制菜單,安全保護系統(tǒng)
占地面積長×寬:4m×3m


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