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高功率脈沖磁控濺射(High-power impulse magnetron sputtering,HiPIMS) 是一種峰值功率極高,靶材原子高度離化的離化物理氣相沉積技術(shù)。
高功率脈沖磁控濺射(High-power impulse magnetron sputtering,HiPIMS) 是一種峰值功率極高,靶材原子高度離化的離化物理氣相沉積技術(shù)。HiPIMS 電源高壓脈沖輸出到磁控靶的脈沖功率密度可達(dá)103kW/cm2;施加在濺射靶上的負(fù)電壓只有在達(dá)到或超過“雪崩式”放電機(jī)制的閾值電壓時(shí)才能獲得百安級(jí)的
靶電流峰值;在瞬時(shí)高壓脈沖的作用下,靠近靶表面的離化區(qū)域等離子體密度可以達(dá)到1018 1019 m*3,試測(cè)得Cu 等離子體的離化率可達(dá)60%s70%;脈寬、頻率、波形等脈沖特征對(duì)等離子體放電有顯著影響,進(jìn)而影響沉積速率和薄膜性能;相比直流磁控濺射,可以獲得更加平滑致密的沉積薄膜,改善膜基結(jié)合反應(yīng),
同時(shí)擁有良好的繞鍍性;偏壓、沉積速率和氣壓等會(huì)對(duì)HiPIMS 的沉積過程產(chǎn)生影響,進(jìn)而影響薄膜的顯微組織和力學(xué)性能。