真空離子鍍膜機(jī)器設(shè)備始于二十世紀(jì)六十年代D.M.Mattox明確提出的基礎(chǔ)理論，且在那時(shí)候逐漸擁有相匹配的試驗(yàn)；直至1971年，Chamber等發(fā)布離子束離子鍍膜技術(shù)性；而反映蒸鍍（ARE）技術(shù)性則是在1972年的Bunshah匯報(bào)所強(qiáng)調(diào)，這時(shí)造成了TiC及TiN等超硬質(zhì)的的塑料薄膜種類；一樣是在1972年，Smith和Moley在鍍膜加工工藝中選用了中空負(fù)極技術(shù)性。到二十世紀(jì)八十年代，在我國離子鍍總算做到工業(yè)生產(chǎn)運(yùn)用的水平，陸續(xù)發(fā)生了真空多弧離子鍍及電孤充放電型離子鍍等鍍膜加工工藝。
真空離子鍍的全部工作中全過程是：最先先將真空室抽真空，待至真空消耗和環(huán)境壓力抽至4X10?3Pa以上，必須 把直流高壓電源接入，在基材與空調(diào)蒸發(fā)器間搭建一個(gè)低電壓充放電汽體的等離子超低溫地區(qū)。用5000V直流電負(fù)髙壓聯(lián)接基材電級(jí)，進(jìn)而產(chǎn)生負(fù)極的電弧放電。稀有氣體離子是在負(fù)輝光區(qū)周邊造成的，其進(jìn)到負(fù)極陰影被靜電場(chǎng)加快并對(duì)基材表層開展負(fù)電子，這是一個(gè)清理全過程，以后就進(jìn)到鍍膜全過程，根據(jù)負(fù)電子加溫的功效，汽化一些鍍料，等離子區(qū)域內(nèi)進(jìn)到分子，與電子器件及稀有氣體離子造成撞擊，也是有一小部分產(chǎn)生離化，針對(duì)這種離化后的離子有著高效率能量會(huì)對(duì)塑料薄膜表層開展負(fù)電子，一定水平上面改進(jìn)膜層品質(zhì)。
真空離子鍍的基本原理是：在真空室中，運(yùn)用汽體的充放電狀況或揮發(fā)化學(xué)物質(zhì)的離化一部分，在揮發(fā)化學(xué)物質(zhì)離子或汽體離子的負(fù)電子功效下，與此同時(shí)堆積這種揮發(fā)物或其生成物在基材上獲得塑料薄膜。
?真空離子鍍膜機(jī)器設(shè)備把真空揮發(fā)、等離子體技術(shù)性與汽體電弧放電這三項(xiàng)技術(shù)性融合起來，不單單是使膜層品質(zhì)顯著改善了，并且還讓塑料薄膜運(yùn)用范疇擴(kuò)張了。該加工工藝的優(yōu)勢(shì)是繞射性強(qiáng)、塑料薄膜粘合力好、可鍍膜材多種多樣等。離子鍍基本原理是由D.M.Mattox初次明確提出的，離子鍍有很多類型，比較普遍的是揮發(fā)加溫方法這一類，有電阻絲加熱、離子束加溫、等離子離子束加溫、高頻率電磁感應(yīng)加熱等各種各樣加溫方法的離子鍍膜設(shè)備。
