高能脈沖磁控濺射（HiPIMS）技術(shù)及工程項目運用
1. 主要用途：光機電一體化
2. 技術(shù)行業(yè)：智能制造技術(shù)
3. 技術(shù)質(zhì)量指標：能夠 批量生產(chǎn)
成果簡介
1、技術(shù)詳細介紹及特性
高能脈沖磁控濺射技術(shù)是利用較高的脈沖最高值輸出功率和較低的脈沖pwm占空比來造成高磁控濺射金屬材料離化率的一種磁控濺射技術(shù)。
力學(xué)所引入法國 huttinger 開關(guān)電源，與等離子技術(shù)吞沒離子注入堆積（PIII&D）方式 緊密結(jié)合，產(chǎn)生一種新奇的涂膜全過程與品質(zhì)管控技術(shù)，是可運用于大中型矩形框靶的離化率可控性磁控濺射新技術(shù)，彌補了中國在該方位的科學(xué)研究空缺。
將高能沖擊性磁控濺射與髙壓脈沖偏壓技術(shù)復(fù)合型，利用其高離化率和吞沒性的特性，根據(jù)涂膜全過程中出射顆粒動能與遍布的合理操縱，完成高膜基結(jié)合性、高質(zhì)量、高勻稱性塑料薄膜的制取。
與此同時融合全新升級的顆粒動能與涂膜全過程意見反饋自動控制系統(tǒng)，進行高離化率等離子技術(shù)產(chǎn)生、等離子技術(shù)的時光演化及荷能顆粒涂膜物理學(xué)過程管理等層面的科學(xué)研究與工程項目運用。其關(guān)鍵技術(shù)具備獨立專利權(quán)，已申請辦理有關(guān)專利發(fā)明二項。
此項技術(shù)對完成 PVD 堆積重要發(fā)展瓶頸的提升具備積極意義，有利于提高在我國在金屬表面處理生產(chǎn)加工行業(yè)的競爭力。如在交通出行行業(yè)，該技術(shù)用以發(fā)動機三構(gòu)件，可減少磨擦 25%，降低耗油量 3%；機械加工制造行業(yè)，堆積優(yōu)秀涂層可使數(shù)控刀片使用壽命提升 2～10 倍，生產(chǎn)加工速率提升 30-70%；
總的來說，該武器裝備系統(tǒng)軟件將在衛(wèi)星通訊、低溫等離子物理學(xué)、新型材料等行業(yè)具備關(guān)鍵的工業(yè)生產(chǎn)運用使用價值。高能脈沖磁控濺射等離子技術(shù)產(chǎn)生與涂膜操縱服務(wù)平臺工作上的高能脈沖磁控濺射靶。
2、主要用途
工模貝高溫鍍層：車輛、航天航空、國防等智能制造應(yīng)用領(lǐng)域；
希土鋁耐腐蝕塑料薄膜：NdFeB 磁石領(lǐng)域環(huán)境保護鍍層運用；
太陽能發(fā)電塑料薄膜：太陽能發(fā)電及新能源技術(shù)行業(yè)運用；
生物技術(shù)塑料薄膜：微生物醫(yī)療行業(yè)運用。
PS：假如也有別的想掌握的專利權(quán)成效信息，能夠在下邊給我留言板留言哦！
