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離子涂層的特點(diǎn)及其應(yīng)用范圍_蘇州粵輝煌專注微弧氧化生產(chǎn)線整體解決方案

離子涂層的特點(diǎn)及其應(yīng)用范圍

發(fā)布時(shí)間:2022-06-28閱讀量:1332

      與蒸發(fā)鍍和濺射鍍相比,離子鍍最大的特點(diǎn)是荷能離子在沉積過(guò)程中轟擊基體和膜層。荷能離子的轟擊效應(yīng)主要有以下幾點(diǎn)。

       由于離子鍍具有上述特點(diǎn),其應(yīng)用范圍非常廣泛。離子鍍技術(shù)可用于金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料(高頻偏差壓力)基底。離子鍍沉積膜可為金屬膜、多合金膜、化合物膜、單層或復(fù)合涂層、梯度涂層和納米多層涂層。采用不同的膜材料、不同的反應(yīng)氣體、不同的工藝方法和參數(shù),可獲得表面強(qiáng)化的硬耐磨涂層、致密穩(wěn)定的耐腐蝕涂層、固體潤(rùn)滑層、各種顏色的裝飾涂層和電子、光學(xué)、能源科學(xué)所需的特殊功能涂層。離子涂層技術(shù)和離子涂層產(chǎn)品了廣泛的應(yīng)用。

       離子真空涂層設(shè)備主要用于機(jī)械零件、飛機(jī)、船舶、汽車、排氣管、飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)、高速旋轉(zhuǎn)零件、工具、超硬模具。


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