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微弧氧化膜層的形成過(guò)程是怎樣的?_蘇州粵輝煌專注微弧氧化設(shè)備整體解決方案

微弧氧化膜層的形成過(guò)程是怎樣的?

發(fā)布時(shí)間:2022-07-05閱讀量:1038

       微弧氧化技術(shù)(MAO)它是在陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)。它是在含有特定離子的電解質(zhì)中,通過(guò)弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用,在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料的表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)。膜層具有耐腐蝕性高、硬度高、耐磨性好、阻抗高、隔熱性好等特點(diǎn)。

       當(dāng)微弧氧化膜層生長(zhǎng)時(shí),首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生一層陽(yáng)極氧化膜。當(dāng)反應(yīng)電壓增加時(shí),膜厚度會(huì)進(jìn)一步增加,電壓會(huì)繼續(xù)增加,厚度會(huì)相應(yīng)增加。但當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí),膜層會(huì)因無(wú)法承受工作電壓而放電和擊穿,產(chǎn)生等離子體放電。反應(yīng)的高溫會(huì)熔化膜層,氧化物會(huì)在富氧環(huán)境中形成。同時(shí),因?yàn)樗陔娊赓|(zhì)中,熔融物瞬間冷凝,在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。陶瓷膜的產(chǎn)生會(huì)導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高,膜層再次被擊穿,膜層厚度進(jìn)一步增加,膜層反復(fù)生長(zhǎng)。

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