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微弧氧化工藝的幾個階段_蘇州粵輝煌專注微弧氧化加工處理服務(wù)

微弧氧化工藝的幾個階段

發(fā)布時間:2022-08-05閱讀量:1282

       微弧氧化,又稱微等離子體氧化,是由普通陽極氧化發(fā)展而來的。其基本原理是突破傳統(tǒng)陽極氧化對電流和電壓的限制,將陽極電壓從幾十伏提高到幾百伏。當(dāng)電壓達(dá)到一定臨界值時,突破閥金屬表面形成的氧化膜(絕緣膜),產(chǎn)生微弧放電,形成高溫高壓,伴隨著復(fù)雜的物理化學(xué)過程。在微弧氧化過程中,同時存在化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化和等離子體氧化。陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,沒有合理的模型可以充分描述陶瓷層的形成。

       微弧氧化過程是指從普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入高壓放電區(qū)域,克服硬陽極氧化的缺陷,大大提高膜的綜合性能。微弧氧化膜與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,耐磨,耐腐蝕,耐高溫沖擊,電絕緣性好。該技術(shù)操作簡單,易于實現(xiàn)膜功能調(diào)節(jié),工藝不復(fù)雜,無環(huán)境污染,是一種新型的綠色環(huán)保材料表面處理技術(shù),在許多領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。

       在微弧氧化過程中,將工件放入電解槽中,工件表面現(xiàn)象和膜層生長過程具有明顯的階段性。

       微弧氧化膜層過程可分為四個階段。在微弧氧化的早期階段,金屬光澤逐漸消失,材料表面產(chǎn)生氣泡,工件表面產(chǎn)生薄而多孔的絕緣氧化膜。此時,電壓和電流遵循法拉第定律,這是陽極氧化的第一階段;隨著電壓和膜的增加,鈦合金表面的火花逐漸增加,移動速度相對減慢,膜生長迅速,這是微弧放電的第三階段;隨著氧化時間的延長,氧化膜達(dá)到一定厚度,膜越來越難穿透,開始出現(xiàn)少數(shù)較大的紅斑,不再大,應(yīng)盡量停止在一定的固定位置。電解質(zhì)中的元素從火花放電階段開始進(jìn)入人體膜層,并與基體元素反應(yīng)產(chǎn)生新的化合物,從而提高膜層的性能。在微弧放電階段,氧化膜的突破總是發(fā)生在膜相對較弱的部位。突破后,該部分形成新的氧化膜,因此突破點轉(zhuǎn)移到下一個相對較弱的部分。因此,最終形成的氧化膜(陶瓷膜)是均勻的。

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