鎂合金微弧氧化的加工工藝流程：除油→去離子漂洗→微弧氧化→自來水漂洗，注意化學(xué)除油（配合超聲波除油作用更好）清洗微弧氧化清洗關(guān)閉烘干成品檢驗(yàn)。
鎂合金微弧氧化進(jìn)程四階段：鎂合金外表出產(chǎn)氧化膜氧化膜被擊穿并發(fā)生等離子微弧放電深層進(jìn)一步被氧化氧化、熔融、凝固平衡階段。
鎂合金微弧氧化的電壓是多少？微弧氧化的電壓一般最高不超越650V，650V以下時(shí)出產(chǎn)的氧化膜隨氧化時(shí)刻的延長(zhǎng)和電壓值的增高而逐漸增厚，電壓超越650V時(shí)微弧氧化膜會(huì)大塊掉落，并在膜外表形成一些小坑，然后大大降低氧化膜的性能。
鎂合金微弧氧化技能的生產(chǎn)工藝條件工藝影響要素：
①合金資料及外表狀況的影響：微弧氧化技能對(duì)鎂工件的合金成分要求不高，對(duì)工件外表狀況也要求不高，一般不需進(jìn)行外表拋光處理。對(duì)于粗糙度較高的工件，經(jīng)微弧氧化處理后外表得到修復(fù)變得更均勻平整；而對(duì)于粗糙度較低的工件，經(jīng)微弧氧化后，外表粗糙度有所進(jìn)步。
②電解質(zhì)溶液及其組分的影響：微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技能關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù)，所得膜層的性質(zhì)也不同。
③氧化電壓及電流密度的影響：微弧氧化電壓和電流密度的操控對(duì)獲取合格膜層相同至關(guān)重要。不同的資料和不同的氧化電解液，具有不同的微弧放電擊穿電壓（擊穿電壓：工件外表剛剛發(fā)生微弧放電的電解電壓）。
④溫度與拌和的影響：與慣例的陽(yáng)極氧化不同，微弧氧化電解液的溫度答應(yīng)范圍較寬，可在10～60℃條件下進(jìn)行。雖然微弧氧化進(jìn)程工件外表有大量氣體析出，對(duì)電解液有一定的拌和作用，但為確保氧化溫度和系統(tǒng)組分的均勻，一般需裝備電解液拌和設(shè)備。
⑤微弧氧化時(shí)刻的影響：微弧氧化時(shí)刻一般操控在10～60min。氧化時(shí)刻越長(zhǎng)，膜的致密性越好，但其粗糙度也添加。
⑥陰極資料：微弧氧化的陰極資料采用不溶性金屬資料，可采用碳鋼，不銹鋼或鎳。
⑦膜層的后續(xù)處理：鎂基工件經(jīng)微弧氧化后可不經(jīng)后處理直接使用，也可對(duì)氧化后的膜層進(jìn)行關(guān)閉，涂漆，機(jī)械拋光等后處理，進(jìn)一步進(jìn)步膜的裝飾性。
