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微弧氧化技術(shù)和微弧氧化陶瓷層特點(diǎn)_蘇州粵輝煌專注微弧氧化設(shè)備整體解決方案

微弧氧化技術(shù)和微弧氧化陶瓷層特點(diǎn)

發(fā)布時間:2022-06-08閱讀量:1005

        微弧氧化陶瓷層具有特殊的結(jié)構(gòu),鎂合金微弧氧化陶瓷層的表面和截面形狀,從截面結(jié)構(gòu)可以看出,陶瓷層與基體連接到冶金微熔過渡區(qū),層內(nèi)組織致密,無穿孔;表面形狀可見 um 級盲孔微區(qū)分布均勻,有利于形成連續(xù)油膜,降低 摩擦系數(shù),增強(qiáng)后續(xù)涂層的附著力。

        鎂合金表面微弧氧化陶瓷層(a)截面(b)形貌。此外,微弧氧化技術(shù)與其他表面處理工藝和膜的性能相比,微弧氧化技術(shù)和微弧氧化陶瓷層也具有以下特點(diǎn):

       (1)孔隙率低,提高了陶瓷層的耐腐蝕性;

       (2)含高溫變相,使陶瓷層硬度高,耐磨性好;

       (3)陶瓷層在基體原位生長,膜層與基體結(jié)合緊密,不易脫落;

       (4)通過改變工藝條件,可以輕松調(diào)整陶瓷層的微觀結(jié)構(gòu)、特點(diǎn),獲得 新的微觀結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)陶瓷層的功能設(shè)計;

       (5)能在試件內(nèi)外表面產(chǎn)生均勻的陶瓷層,擴(kuò)大微弧氧化的適用范圍;

       (6)陶瓷層厚度易于控制,提高了微弧氧化的可操作性;

       (7)處理效率高:一般陽極氧化 50μm 大約需要 1~2h,微 弧氧化只需要 10~30min;

       (8)操作簡單,無真空或低溫條件,預(yù)處理工藝少,性價比高,適用于自動化生產(chǎn);

       (9)對材料適應(yīng)性廣,除鋁鎂合金外,還可在 Ti、Zr、Ta、Nb 陶瓷層生長在金屬及其合金表面;

       (10)微弧氧化技術(shù)也具有工藝簡單、環(huán)境污染小、清潔工藝的特點(diǎn)。
       鋁鎂合金經(jīng)微弧氧化處理后形成陶瓷層表面的多孔特性,在惡劣環(huán)境下經(jīng)常發(fā)生點(diǎn)蝕,難以滿足實(shí)際工程應(yīng)用的要求。然而,多孔結(jié)構(gòu)的陶瓷層很好地滿足了 后續(xù)涂裝工藝對基材表面的要求(均勻、多孔)。結(jié)合無預(yù)處理的微弧氧化和 靜態(tài)保護(hù)性能優(yōu)異的有機(jī)涂層技術(shù),在鋁鎂合金表面制備高性能、 多用途的陶瓷有機(jī)復(fù)合涂層,復(fù)合涂層的性能明顯優(yōu)于單微弧氧化或傳統(tǒng)的 涂層工藝。

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