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離子鍍設(shè)備涂層的特點及其應(yīng)用范圍_蘇州粵輝煌專注微弧氧化設(shè)備整體解決方案

離子鍍設(shè)備涂層的特點及其應(yīng)用范圍

發(fā)布時間:2022-10-17閱讀量:1539

與蒸發(fā)鍍和濺射鍍相比,離子鍍設(shè)備最大的特點是荷能離子在沉積過程中轟擊基體和膜層。荷能離子的轟擊效應(yīng)主要有以下幾點。

由于離子鍍設(shè)備具有上述特性,其應(yīng)用范圍非常廣泛。在金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料(頻偏壓)基體都可以采用離子鍍技術(shù)進(jìn)行鍍膜。沉積的離子涂層可以是金屬膜、多合金膜、化合物膜;單層或復(fù)合涂層;梯度涂層和納米多層涂層。采用不同的膜材料、不同的反應(yīng)氣體、不同的工藝方法和參數(shù),可獲得表面強(qiáng)化的硬耐磨涂層、致密穩(wěn)定的化學(xué)性能、固體潤滑層、各種顏色的裝飾涂層和電子、光學(xué)、能源科學(xué)等特殊功能涂層。離子鍍技術(shù)和離子鍍技術(shù)和離子鍍產(chǎn)品。

離子真空涂層設(shè)備主要用于機(jī)械零件、飛機(jī)、船舶、汽車、排氣管、飛機(jī)發(fā)動機(jī)、高速旋轉(zhuǎn)零件、工具、超硬模具。



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