微弧氧化(Microarc oxidation, MAO)又稱等離子體電解氧化氧化（Plasma electrolytic oxidation, PEO）、氧化微等離子體(Microplasma oxidation, MPO)等，是鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面通過電解質與相應電參數(shù)的結合，依靠弧放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，以基質金屬氧化物為主的陶瓷膜原位生長。微弧氧化技術處理最多的材料是鎂、鋁、鈦及其合金。此外，鉭、鈮、鋯、鈹?shù)炔牧系谋砻婵芍苯舆M行微弧氧化，具有廣闊的應用前景。
微弧氧化技術的特點：
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜層是表面多孔(孔徑幾微米)、內(nèi)部致密的陶瓷層。膜層硬度高(維氏硬度可在幾百到三千左右) 幾微米到幾百微米之間，厚度在幾微米到幾百微米之間。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，摩擦率4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系數(shù)0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蝕性
耐中性鹽霧腐蝕(國標)≥400h ，可做至≥800h膜層無明顯腐蝕。
4. 耐熱性高 絕緣性好
根據(jù)基材熔點的溫度，耐熱性高，可承受高溫使用 絕緣性能好，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。
5. 高結合力
陶瓷膜在基體原位生長，膜層與基金屬結合力強，陶瓷膜致密均勻，剪切強度330MPa，拉伸強度370MPa。
注：上述試驗參數(shù)是基于鋁合金材料，如筆電上鎂合金微弧氧化表面性能稍差。
