微弧氧化處理需經(jīng)歷四個步驟：
(1)陽極氧化階段
將樣品放入一定的電解質(zhì)中。通電后，樣品表面和陰極表面出現(xiàn)無數(shù)細小均勻的白色氣泡，隨著電壓的升高，氣泡逐漸變大變密，生成速度加快。這種現(xiàn)象在達到突破電壓之前就已經(jīng)存在了，這是陽極氧化階段。
(2)火花放電階段
當樣品的電壓達到突破電壓時，樣品表面開始出現(xiàn)無數(shù)小而低亮度的火花點。這些火花點密度低，沒有爆炸性的聲音。在這個階段，陶瓷層開始在樣品表面形成，但陶瓷層的生長率很小，硬度和密度很低，所以這個階段的時間應該盡量減少。
(3)微弧氧化階段
進入火花放電階段后，隨著電壓的不斷升高，火花逐漸變大變亮，密度增加。然后，放電弧斑開始出現(xiàn)在樣品表面?；“咻^大，密度較高，隨著電流密度的增加而變亮，并伴有強烈的爆炸聲，進入微弧氧化階段。
(4)熄弧階段
在微弧氧化階段末期，當電壓達到最大值時，陶瓷層的生長將出現(xiàn)兩種趨勢。一是樣品表面的弧線越來越疏，最終消失，表面只有少量的細火花，最終消失，爆炸停止。另一種是表面只有少量的細火花，最終會完全消失，其他一個或幾個部位突然出現(xiàn)大弧斑。這些大弧斑明亮耀眼，能長時間保持不動，產(chǎn)生大量氣體，爆鳴聲增加。
