微弧氧化(Microarc oxidation,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation,MPO),通過電解質(zhì)與相應(yīng)電參數(shù)的結(jié)合,依靠弧光放電在鋁、鎂、鈦及其合金表面產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用,生長出以基質(zhì)金屬氧化物為主的陶瓷膜層。成膜速率根據(jù)基質(zhì)材料、溶液和膜性能要求確定,即微弧氧化工藝。
一般來說,成膜速度不能太快或太慢。如果成膜速度過快,會(huì)導(dǎo)致膜層粗糙度大、組織松散、孔隙大、孔隙多,使膜層的耐磨性和耐腐蝕性差;如果過慢,膜層厚度達(dá)不到,使膜層硬度和耐磨性達(dá)不到理想要求。
因此,膜的厚度受電流密度、電流頻率、空比、穿透電壓、添加劑等因素的影響。只有控制這些工藝參數(shù),才能制備出合適厚度的膜,以滿足性能要求。